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Ge (Germanium) Sputtering Target, 99.999%
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GeP (Germanium phosphide) Sputtering Target, 99.999%
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Hf (Hafnium) Sputtering Target, 99.5%
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Hf (Hafnium) Sputtering Target, 99.95%
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Ho (Holmium) Sputtering Target, 99.99%
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In (Indium) Sputtering Target, 99.99%
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In (Indium) Sputtering Target, 99.995%
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Ir (Iridium) Sputtering Target, 99.95%
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Iron (Fe) Sputtering Target, 99.99%
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ITO (Indium tin oxide) Sputtering Target, 99.99%
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La (Lanthanum) Sputtering Target, 99.9%
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Li (Lithium) Sputtering Target, 99.9%
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Mg (Magnesium) Sputtering Target, 99.9%
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Mn (Manganese) Sputtering Target, 99.9%
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Mo (Molybdenum) Sputtering Target, 99.95%
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Mo (Molybdenum) Sputtering Target, 99.99%
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NaNbO3 (Sodium Niobate) Sputtering Target, 99.99%
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Nb (Niobium) Sputtering Target, 99.95%
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Nb3Al (Niobium Aluminide) Sputtering Target, 99.99%
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Nd (Neodymium) Sputtering Target, 99.9%
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Ni (Nickel) Sputtering Target, 99.99%
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Ni (Nickel) Sputtering Target, 99.995%
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Pb (Lead) Sputtering Target, 99.9%
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Pd (Palladium) Sputtering Target, 99.9%
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